乾燥技術

真空で優しく乾燥

加熱プロセスにおいて、様々な分野で真空乾燥の効果が証明されました。水もしくは溶剤を含む高級製品を製品の特質を変化させることなく、優しく乾燥することが、このプロセスの目的です。

真空での乾燥では、水分もしくは溶剤がすでに低い温度にて液状から蒸気へと変化するように、乾燥システムの全圧が下げられます。

狙いを定めて熱を加え圧力を調整することにより、乾燥プロセスを最適化することができるのです。

通常、真空乾燥システムは、ヒーティングシステムを装備した乾燥オーブン、特殊乾燥プロセスのための真空ポンプユニットおよび制御システムにて構成されています。

水の状態図

1. 露点
2. 融点
3. 昇華点
4. 三重点 （0.01 °C/6.09 mbar）

乾燥技術 システム概要

VSD

• 真空乾燥システム
• 乾燥原理：真空、熱
• 温度：最大 200 °C
• 容量：1 ～ 20 m²
• ヒーティング：温水、サーモオイル
• 素材：高級ステンレス、ハステロイ、インコネル、チタン等の特殊素材
• 表面 研磨、ポリッシュド

VSDI

• アイソレーター付き真空乾燥炉
• 乾燥原理：真空、熱
• 温度：最大 200 °C
• 容量：0.2 ～ 2 m²
• ヒーティング：温水、サーモオイル
• 素材：高級ステンレス、ハステロイ、インコネル、チタン等の特殊素材
• 表面 研磨、ポリッシュド

VSDIN

• アイソレータ/アイソレータおよび圧力ヌッチェ装備真空乾燥システム
• 乾燥原理：真空、熱
• 温度：最大 200 °C
• 容量：0.2 ～ 2 m²
• ヒーティング：温水、サーモオイル
• 素材：高級ステンレス、ハステロイ、インコネル、チタン等の特殊素材
• 表面 研磨、ポリッシュド

VSD-e

• 真空乾燥システム
• 乾燥原理：真空、熱
• 温度：最大 200 °C
• 容量：0.18 m²
• 電気ヒーティング
• 素材：高級ステンレス、ハステロイ、インコネル、チタン等の特殊素材
• 表面 研磨、ポリッシュド

VT

• 真空乾燥システム
• 乾燥原理：真空、熱
• 温度：最大 200 °C
• 容量：1 ～ 20 m²
• ヒーティング：温水、サーモオイル、電気
• 素材：高級ステンレス
• 表面 研磨、ポリッシュド

UT

• コンベクション乾燥オーブン
• 乾燥原理：対流、熱
• 温度：最大 250 °C
• 容量：0.8 ～ 12 m³
• ヒーティング：温水、サーモオイル、電気、蒸気
• 素材：高級ステンレス
• 表面 研磨、ポリッシュド、ブライトロールド

VUT

• 真空コンベクション乾燥システム
• 乾燥原理：真空、対流、熱
• 温度：最大 200 °C
• 容量：要望による
• ヒーティング：温水、サーモオイル、電気
• 素材：高級ステンレス
• 表面 研磨、ポリッシュド、ブライトロールド

お客様のニーズに対応したソリューションを提供

性能